SPIE 光掩模技术 + EUV 光刻
蒙特雷 蒙特利万豪酒店
2024 年 9 月 29 日至 10 月 3 日
光掩模、EUV 光刻和相关工艺技术贸易展览会和会议
SPIE 光掩模技术+ EUV 光刻是光掩模、EUV 光刻和相关工艺领域的全球领先贸易展览会和会议。它是工业和学术界专家交流的重要平台。在展会上，将展示和讨论该领域的最新发展、创新技术和当前挑战。SPIE 的首字母缩写代表“国际光学和光子学学会”，该学会是活动的组织者。
该活动每年在蒙特雷的蒙特雷万豪酒店举行，为专业人士和参展商提供了解进步和市场趋势的机会。
展会的主要主题包括掩模技术，例如检查、修复、计量、清洁技术、EUV 光刻、纳米压印技术、直接写入技术和晶圆加工。此外，还介绍了最新的工具、模拟软件、光刻胶、基板和蚀刻材料。这些广泛的主题使该展会成为光掩模行业的中心聚会点。
此次展会吸引了来自微电子、半导体技术和纳米技术领域的参展商和参观者，为成熟企业和学术界（包括新兴人才）提供了重要平台。后者受益于特殊的学生专区、课程和 EUV Tech 学生奖颁奖典礼等活动。
特别值得一提的是 BACUS 奖项，该奖项旨在表彰行业内的杰出成就并强调创新研发工作的重要性。
蒙特雷会场位置便利、环境优美，加上地处中心且设施齐全的蒙特雷万豪酒店，为此次备受瞩目的活动提供了理想的场地。
综上所述，SPIE光掩膜技术+EUV光刻技术是一个重要的专业交流平台，提供了发现最新产品和服务并与行业领先人才建立联系的机会。它令人印象深刻地展示了持续创新如何突破微电子和相关领域的技术界限并重新定义其可能性。
SPIE 光掩模技术 + EUV 光刻将于 2024 年 9 月 29 日星期日至 2024 年 10 月 3 日星期四在蒙特雷举行，为期 5 天。
产品组：电子束记录器、激光束记录器、光掩模坯料、光掩模材料、光掩模生产设备、光掩模……
